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2023年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛将于2023年9月18-19日在广东省东莞市厚街镇厚街大道东2号 (海悦花园大酒店)举行,儒佳科技作为本次会议赞助单位出席本次会议。
会议背景:
研磨抛光在很多精密工业产品生产中必不可少,尤其CMP抛光是半导体先进制程中的关键技术,随着半导体产业的发展,研磨抛光材料市场规模持续扩大。人工智能和5G时代的到来,对
光学元件、触摸屏、液晶显示面板、光纤信号放大器等提出更高要求,稀土氧化铈因其合适的硬度和化学活性,成为玻璃、硅片、石材、漆面等**的抛光材料;硅溶胶作为CMP抛光液的
重要组成部分,在超大规模集成电路硅衬底及层间电介质、浅沟槽隔离绝缘体、导体和镶嵌金属等全局平坦化过程中的有着重要的应用;氧化铝粉体在五金、宝石及精密玻璃等行业不可替代
;碳化硼、立方氮化硼、金刚石等超硬材料也在不断拓展在抛光领域的应用潜力。
受益于5G通讯、半导体、人工智能、**等新兴产业本身的需求拉动,研磨抛光材料市场放量在即,机遇值得把握。粉体圈、中国电子材料行业协会粉体技术分会诚邀您参与2023年9月
18-19日在东莞举办的“2023年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛”,共同探讨抛光领域的市场发展走向及CMP抛光关键材料的创新关键及国产化。
儒佳产品先容:
下面给大家先容的这款设备是儒佳UM系列立式纳米砂磨机,这是一款专门针对纳米级物料研磨的研磨设备,
适用于市场上难分散及研磨的,且细度要求20-100nm的物料研磨。其优势有:
专门针对微小研磨介质的使用进行了优化设计,可以使用0.1mm以下的研磨介质。
应用范围广阔,涵盖了柔性分散至高能研磨范围。
离心分离出料,无滤网。
研磨腔体全部为高耐磨材料,针对不同应用有多种材料选择。